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Artikelbeschreibung

Hitchman, M.L. and K.F: Jensen:
Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications
London, San Diego, New York, Academic Press, 1993.

gefunden im Sachgebiet: Chemie

FRISCHES, SEHR schönes Exemplar der ERSTAUSGABE. Originalpappband. 22cm V, 677 Seiten. First edition

FRISCHES, SEHR schönes Exemplar der ERSTAUSGABE.

[SW: Chemie, Anwendung chemischer Dampf, Prinzip, Prinzipien]
Chemie, Anwendung, chemischer, Dampf, Prinzip, Prinzipien
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